中频磁控镀膜设备-55sj世纪

中频磁控镀膜设备

55sj世纪磁控溅射镀膜设备是集直流磁控溅射、中频磁控溅射和多弧离子三种技术融合一体的，可适应广泛镀膜靶材，无论是金属还是介质、化合材料都可以利用溅射工艺进行镀膜和成膜，使膜层附着力、致密度、重复度及颜色一致性等特点。可以镀金属膜，还可以镀氮化钛、碳化钛、氮化锆、氮化铬、氧化钛、TiN、ZrN、TiAlN、TiC、TiCN、CrN、Al2O3等多种膜层。

全SUS304优质不锈钢机身，隐藏式双层冷却水套设计

合理配备多套全新研制的离子弧源，有效保障弧源溅射的稳定性与均匀性。

采用多路进气系统，精准控制气体流量，满足您多种化合物膜层需求。

结合脉冲偏压技术，极大提高电粒子能量，从而获得优秀的膜层结合力和光洁度。

55sj世纪该设备主要广泛应用于：五金产品、玻璃工艺品、陶瓷工艺品，如卫浴产品、手表钟表、刀具、模具、水晶玻璃、高尔夫球具、灯具、眼镜框架、瓷砖地板砖等等。

55sj世纪可加工的材料包括：不锈钢、铜、铁、锌合金、铝、ABS、玻璃、陶瓷等。

55sj世纪可镀基材表面状态：普通电镀亮面、哑面（半哑、全哑）、工艺电镀皱纹、拉丝、雨滴等。

55sj世纪镀制颜色有：半透明、金、银、玫瑰金、黑、深黑、绿、蓝、紫、七彩等。

肖先生： 0086-13646627677

设备参数
优势特点
应用案例

设备参数

型号	HY-1214	HY-1416	HY-1618
真空室尺寸	Ø1200*1400mm	55sj世纪Ø1400*1600mm	55sj世纪Ø1600*1800mm
真空室结构	立式单开门
镀膜方式	离子配偏压技术
极限真空	55sj世纪8.0*10-4Pa (空载)
抽气时间	空载大气抽至5.0*10-2Pa小于15分钟
焊材类型	钛靶、铬靶、锆靶、铁靶、钛铝靶，各种中频靶、直流靶等
镀膜颜色	55sj世纪半透明、金、银、玫瑰金、黑、绿、蓝、紫、七彩、 TiN、ZrN、TiAlN、TiC、TiCN、CrN、Al2O3等
控制方式	全自动，半自动，手动 PLC触摸屏控制
特殊要求	按客户特殊工艺要求定制